AI赋能光刻技术!谷歌AlphaEvolve助力Substrate实现跨越式突破

作者:pintuo 发布时间:2026-04-09 点击数:

4月9日消息,专注于X射线光源光刻技术的初创企业Substrate,在当地时间4月7日的官方博客中宣布,谷歌DeepMind旗下的AlphaEvolve编程智能体,已对其计算光刻技术堆栈实现大幅优化,助力企业在技术效率上实现质的飞跃。

据悉,引入AlphaEvolve后,Substrate仅用一个月时间,就实现了计算光刻工作负载的全方位提升:运行速度提升680%,计算成本大幅降低97%,内存用量减少94%,三大核心指标的突破的同时,还严格遵循底层物理规律,未破坏技术本质。

AlphaEvolve的赋能亮点十分突出:它不仅大幅降低了计算光刻所需的分辨率,还通过调整代码数据类型,让相关工作负载可适配谷歌TPU运行,降低算力成本;同时支持Substrate团队自动化探索数十万个潜在算法改进点,无需大量反复实测,就能提前掌握技术弱点与优化方向。

值得一提的是,在AlphaEvolve的支持下,Substrate仅通过一次光刻,就实现了12nm特征尺寸的双向M1金属互联层,性能达到High NA EUV系统水平。Substrate表示,此次合作让其深刻认识到,模型与芯片的协同进化,正是计算智能的未来发展方向。


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